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DL-78型单晶炉的热场和减压工艺\1前言集成电路生产的发展一方面不断缩小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不断扩大硅片直径以减少芯片的离故度和降低成本。相应地，作为集成电路基础材料的硅单晶生产也在不断地提高其技术质量指标和增大单晶锭的直径和长度，以满足电路的要求和降低自身的生产成本。在国外市场上，硅晶体直径大致每4～5年增长1时（25．4mm），相应地，生产投料重也由1公斤逐渐发展为3～5公斤、8～12公斤、15～刘公斤和朋～6O公厅等几个等级。在这发展中，有两个条件是相辅相成、共同进步的，这是单晶炉和拉晶工艺。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，主要产品　　七大类：电阻炉、感应炉、真空炉、电子束炉、热处理（或熔炼）机组、热处理辅助设备、燃烧炉三． 电阻炉：三大部件：加热器、炉衬、耐构件 　　1． 分为周期式及连续式两大类 　　2． 周期式炉的特征： 　　A． 炉料同时加入同时取出 　　B． 加热时炉料基本不动（特殊情况除外：如滚筒炉，辊底炉） 　　C． 工作区内力求温度均匀3． 周期式电阻炉的分类　　A． 箱式炉 　　B． 台车炉（分为自行式和牵引式），用作退火之用，加热后工件随炉冷却 C． 井式炉