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制备聚对二甲苯膜的方法有多种:涂层法、真空气相沉积法、等离子增强化学气相沉积法、化学气相冷凝法。涂层法是单体溶解在中,配成一定比例的溶液,通过浸涂、喷涂或旋涂等方法制备薄膜,采用催化剂或升温的方法聚合成聚对二甲苯膜。

聚对二甲苯涂层在室温条件下气相沉积获得的薄膜物质,可以生成数百微米内任何厚度的薄膜。利用真空沉积技术可以将膜厚精度控制在1μm。此外,真空沉积的帕利灵具有均一性、保形性,无微孔无缺陷,化学性质不活泼等优良特性。

聚对二甲苯涂层材料主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二)和 Parylene D(聚二氯对二)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。

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