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真空度低解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法:更换蒸发舟。 补充: 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了,不好意思。 追问: 不好意思,我没有说你才疏学浅的意思- -#,我意思说就像发黄的原因有:1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3,镀膜时间过长;喷铝过多 4,镀膜电流过高

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在简易隔离式偏压电源设计中,非对称半桥反激电路是关键。它通过同步降压电路提供隔离电源,类似于同步降压调节器的工作原理。输入电压驱动的场效应管(FET)驱动电感电容滤波器,随后通过分压器和误差放大器的协同作用,调整滤波器输出,保持DC电压稳定。特别之处在于,电感电路中的耦合绕组和二极管设计巧妙地解决了负载电压调节的难题,通过二极管的直流电压调整,提升了负载调节的精度。如果采用场效应管替代,性能将进一步提升。

总结起来,真空多弧离子镀膜机的偏压电源是一个精密调控的系统,它通过复杂的电路设计,确保了离子的加速和沉积过程,从而实现的涂层工艺。无论是直流还是脉冲电源,每一环节都对终的镀膜效果有着至关重要的影响。

真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,
JTPZ多功能镀膜技术及设备(加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机),针对汽车、摩托车灯具而设计的,在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜,这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事保护膜;防潮增透膜;防锈抗腐蚀;耐磨增硬膜。

需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

1)所需设备:CCZK-1350-OGS光学电子枪镀膜设备
  2)获得膜层:多层化合物膜层,超硬防水膜层,防指纹膜层,彩色膜层
  3)涂装流程:玻璃产品的前处理清洗----烘箱烘干-----真空镀膜----成品包装
  4)基本配置:
  腔体结构:D1350MM*H1350MM 立式单开门
  腔体材质:304不锈钢
  转动方式:公自转结合,穹顶行星式转架
  蒸发电源:SCR可控硅+大功率蒸发变压器
  蒸发阻源:3组
  电 子 枪:E型电子枪,磁偏转270°
  坩    埚:可旋转多孔位坩埚

1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
  2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
  3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
  4)基本配置:
  1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
  2.腔体材质:碳钢
  3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
  4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
  5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
  6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
  7.传动系统:滚轴传动,变频可调
  8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
  9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
  10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
  11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
  5)需求配套设施:

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