高配置剪切分散机，新材料研磨分散机，纳米级高分子材料分散机

   高配置剪切分散机，新材料研磨分散机，纳米级高分子材料分散机，高速高剪切粉碎机，医药超微混悬液研磨分散设备，进口分散机价格。分散机主要是针对不同粘度浆状的液体原料进行粉碎、分散、乳化和混合，通过分散盘上下锯齿的高速运动的新型搅拌设备，对物料进行高速的强烈剪切、撞击、粉碎、分散，达到迅速融合、溶解、细化、分散的功能。

上海依肯公司的研磨分散设备（CMSD）目前已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、鳞片石墨、蠕虫石墨、活性炭等碳材料中，在锂电池、光伏材料、光催化材料、医药等多重领域上应用显zhu，客户遍布全国各省市，客户群体包括各大药企、科研机构、新兴企业、民营企业、国营及事业单位，更有包括帝斯曼、泰莱、奇华顿等多跨国企业。

混悬剂稳定性影响因素：

1.粒子沉降----通过stokes沉降方程可知,粒子半径越大,介质粘度越低,沉降速度越快.为保持稳定,应减小微粒半径,或增加介质粘度（助悬剂）。

2.荷电与水化膜----- 双电层与水化膜能保持粒子间斥力,有助于稳定.如双电层zeta电位降低，或水化膜破坏,则粒子发生聚沉.电解质容易破坏zeta电位和水化膜。

3.絮凝与反絮凝---- 适当降低zeta电位,粒子发生松散聚集,有利于混悬剂稳定.能形成絮凝的物质为絮凝剂。

4.结晶----- 放置过程中微粒结晶,结晶成长,形成聚沉。

5.分散相温度----- 温度降低使布朗运动减弱,降低稳定性.故应保持合适的温度。

制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国nei的设备之后，放弃了具有ji度价格优势的国nei设备，来询问低能耗、高转速、经密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)。

除此之外，设备更有人性化设置：

1、研磨间隙可调，研磨细度可控；

2、设备可灵活改装成6种设备（分散机、乳化机、胶体磨、研磨分散机、锥体磨、湿磨机）；

3、夹套设计，温度可控（可降温，可加热  其中的介质可以是水、冷却液、导热油或混合物料中的液相介质）；

4、模块化分体结构，操作维护方便，占地面积小。

上海依肯机械设备主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一高剪切分散乳化机，二 均质机，三 粉液分散机，四 胶体磨，五 搅拌机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确bao设备运行稳定的可靠性。

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达

电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件： PTC 热保护、降噪型

均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti

均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

均质机表面处理：抛光、耐磨处理

进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍

均质机选配容器：本设备适合于ge种不同大小的容器.

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