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Inlens 探测器均放置 在镜筒内正光轴上, 在减少重新校准耗时 的同时有效地缩短了获取图像的时间。 Gemini 电子束推进器技术可以在非常 低的加速电压下仍获得小束斑和高信噪比。
此外, 它确保了电子束在镜筒中运动时始 终保持高加速电压, 直至出镜筒后才减速 至设定电压, 更大程度地减小外部杂散磁 场对系统灵敏度的影响。GeminiSEM 360 、 GeminiSEM 460 和 GeminiSEM 560 三 者 均 应用了 Gemini 设计、 Inlens 探测器和电子 束推进器技术。

充分发挥 Gemini 2 型光学系统的性能优势
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 处 在 于 配 备 的 Gemini 2 型光学系统主要运用了双聚光镜, 在获得理想的小电子束斑同时可连续调节束 流。这使高电子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外, 您也可以在不同的成像模式之间进行无缝切 换或更改成像参数。此操作简便快速,因为 在更改成像参数后无需进行校准,而且经调 校的扫描电镜可以保持稳定地工作。

Gemini 3 型镜筒介绍
Gemini 3 型镜筒是专为表面灵敏成像领域 的苛刻任务而设计,它确保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作条件下都能达到高分 辨率。它由两个协同工作的组件组成,即 Nano-twin 物镜和智能自动光路调节—— 它 们组成一个全新的电子光学引擎。 BSE 的优 势也可以为您提供良好的图像衬度,让您可 以从样品中提取出尽可能多的信息。

智能自动光路调节( Smart Autopilot)
与 Nano-twin 物镜相结合,新的智能自动光 路调节让您受益于以下特点:
• 通过聚光镜优化所有工作条件下的电子束 会聚角,在每种工作能量下都能获得出色 的分辨率。

智能自动光路调节优化了通过镜筒的电子轨 迹,从而确保了在每个加速电压下尽可能高 的分辨率。它还引入了新的自动功能,在整 个放大倍数范围内(从 1 倍到 2,000,000 倍) 实现无缝对准自由切换,并将观察视野增 加了 10 倍,从而可以在单幅图像中完整成 像 13 厘米的物体。GeminiSEM 560 保持了 市场上尺寸达 32k × 24k 的超大图像存储像素, 在大视野无畸变拼接成像方面优势。

全套探测系统: 根据出射能量和出射角选 择性地探测样品的电子
GeminiSEM 系列的全套探测系统有大量不同 的探测器可供选配。通过组合 EsB (能量选 择背散射) 探测器、 Inlens 二次电子探测器 及 AsB (角度选择背散射) 探测器获取样品 材料、表面形貌或结晶度的信息。入射电子 与样品作用后可产生二次电子( SE ) 和背散 射电子( BSE )。从纳米级样品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次电子可用来表征样 品的表面形貌。这些二次电子可通过特设 计的电子束推进器向后加速进入镜筒,并经 Gemini 物镜投射到环形 Inlens 二次电子探测 器里。 GeminiSEM 可根据样品的表面条件在 宽角度范围内探测二次电子。

强化显微镜系统
蔡司显微镜系统可采用多种方式升级:开放式的升级界面让您一直保持较高的技术水准。当新 升级的装备付诸应用时,不仅能延长显微镜的使用寿命,还能提高工作效率。

专为日常检测和分析应用而设计,蔡司 EVO 拥有的操作 设计理念,无论是经验丰富的显微技术人员还是不具备扫描 显微镜知识的工程师,均可轻松上手。它能够提供出色 的数据,特别适合于后续检测中无法涂覆导电层的非
导电零部件。

产品应用领域
■ 金属 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨损分析, 断口分析, 腐蚀研究, 原位分析。
■ 微纳加工
结构分析,表面粗糙度分析, 高深宽比结构表征,膜厚测量。
■ 半导体和微电子
表面缺陷定位和分析、发光缺陷观察,表面粗糙度分析,膜厚测量等。
■ 医疗器械检测
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚测量,微生物观察等。
■ 生物材料和医学
金属表面细胞生长研究, 微生物金属腐蚀研究, 植入物表面细菌生长表征等。

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