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广西ZEISS电子显微镜工作原理

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Gemini 物镜的设计结合了静电场与磁场, 在提升光学性能的同时将它们对样品的影 响降至低。因此,即便是要求苛刻的样 品 —— 如磁性材料,也能进行成像。 在 Gemini 镜筒设计理念中, Inlens 用二次 电子( SE ) 和背散射电子( BSE ) 探测器来 确保的信号检测。

Inlens 探测器均放置 在镜筒内正光轴上, 在减少重新校准耗时 的同时有效地缩短了获取图像的时间。 Gemini 电子束推进器技术可以在非常 低的加速电压下仍获得小束斑和高信噪比。
此外, 它确保了电子束在镜筒中运动时始 终保持高加速电压, 直至出镜筒后才减速 至设定电压, 更大程度地减小外部杂散磁 场对系统灵敏度的影响。GeminiSEM 360 、 GeminiSEM 460 和 GeminiSEM 560 三 者 均 应用了 Gemini 设计、 Inlens 探测器和电子 束推进器技术。

充分发挥 Gemini 2 型光学系统的性能优势
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 处 在 于 配 备 的 Gemini 2 型光学系统主要运用了双聚光镜, 在获得理想的小电子束斑同时可连续调节束 流。这使高电子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外, 您也可以在不同的成像模式之间进行无缝切 换或更改成像参数。此操作简便快速,因为 在更改成像参数后无需进行校准,而且经调 校的扫描电镜可以保持稳定地工作。

智能自动光路调节优化了通过镜筒的电子轨 迹,从而确保了在每个加速电压下尽可能高 的分辨率。它还引入了新的自动功能,在整 个放大倍数范围内(从 1 倍到 2,000,000 倍) 实现无缝对准自由切换,并将观察视野增 加了 10 倍,从而可以在单幅图像中完整成 像 13 厘米的物体。GeminiSEM 560 保持了 市场上尺寸达 32k × 24k 的超大图像存储像素, 在大视野无畸变拼接成像方面优势。

全套探测系统: 根据出射能量和出射角选 择性地探测样品的电子
GeminiSEM 系列的全套探测系统有大量不同 的探测器可供选配。通过组合 EsB (能量选 择背散射) 探测器、 Inlens 二次电子探测器 及 AsB (角度选择背散射) 探测器获取样品 材料、表面形貌或结晶度的信息。入射电子 与样品作用后可产生二次电子( SE ) 和背散 射电子( BSE )。从纳米级样品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次电子可用来表征样 品的表面形貌。这些二次电子可通过特设 计的电子束推进器向后加速进入镜筒,并经 Gemini 物镜投射到环形 Inlens 二次电子探测 器里。 GeminiSEM 可根据样品的表面条件在 宽角度范围内探测二次电子。

维修、维护及优化
确保显微镜的正常工作时间。蔡司的维保服务协议可让您的运行成本更经济,避免因停机而 造成的损失,并通过提升系统性能达到理想的工作状态。维保服务协议可为您提供一系列的 可选服务种类以及不同级别的服务。在选择维保服务方案上我们会给予全力支持,以求满足 您的系统需求与使用要求,同时遵守您单位的规定。

专为日常检测和分析应用而设计,蔡司 EVO 拥有的操作 设计理念,无论是经验丰富的显微技术人员还是不具备扫描 显微镜知识的工程师,均可轻松上手。它能够提供出色 的数据,特别适合于后续检测中无法涂覆导电层的非
导电零部件。

扩展功能
■ 与蔡司电镜可实现联用, 实现样品的多尺 度多维度研究;
■ 搭载第三方配件, 如冷热台, 拉伸台, 实 现样品原位 4D 分析;
■ 搭载 Airyscan 实现高分辨荧光成像;
■ 配置 ZEN Intellesis 软件提供基于机器学习 的图像分割解决方案,可用于鉴别复杂样 品的不同相组织。

产品应用领域
■ 金属 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨损分析, 断口分析, 腐蚀研究, 原位分析。
■ 微纳加工
结构分析,表面粗糙度分析, 高深宽比结构表征,膜厚测量。
■ 半导体和微电子
表面缺陷定位和分析、发光缺陷观察,表面粗糙度分析,膜厚测量等。
■ 医疗器械检测
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚测量,微生物观察等。
■ 生物材料和医学
金属表面细胞生长研究, 微生物金属腐蚀研究, 植入物表面细菌生长表征等。

下一条:防城港卡尔蔡司场发射显微镜分辨率
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