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DL-78型单晶炉的热场和减压工艺\1前言集成电路生产的发展一方面不断缩小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不断扩大硅片直径以减少芯片的离故度和降低成本。相应地，作为集成电路基础材料的硅单晶生产也在不断地提高其技术质量指标和增大单晶锭的直径和长度，以满足电路的要求和降低自身的生产成本。在国外市场上，硅晶体直径大致每4～5年增长1时（25．4mm），相应地，生产投料重也由1公斤逐渐发展为3～5公斤、8～12公斤、15～刘公斤和朋～6O公厅等几个等级。在这发展中，有两个条件是相辅相成、共同进步的，这是单晶炉和拉晶工艺。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，上虞半导体材料生产设备的设计、制造和调试的股份制企业。通过人才引进，拥有一批高、中级技术型的研发设计人员和经营管理人才，具有自主的产品设计开发能力和相当规模的生产能力。依托浙江大学机械电子控制工程研究所的高科技优势，通过与浙江大学大学科技园杭州慧翔电液技术开发有限合作，共同开发出拥有自主知识产权的ZJS系列TDR80A，TDR80B，TDR8，TDR9型全自动晶体生长炉，并形成批量生产。