小型坩埚真空蒸镀仪

小型坩埚真空蒸镀仪KT-Z1650CVD

小型蒸镀仪 郑州科探KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。

以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟

真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色

小型坩埚真空蒸镀仪KT-Z1650CVD
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
大功率
≤1200W
大输出电压电流
电压≤12V 电流≤120A
真空度
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台
可旋转φ62 （大可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140mm
蒸发温度调节
≤1800℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
预留真空接口
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）
数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）
分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）