肇庆封开县真空镀膜机回收现场定价
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真空度低解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法:更换蒸发舟。 补充: 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了,不好意思。 追问: 不好意思,我没有说你才疏学浅的意思- -#,我意思说就像发黄的原因有:1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3,镀膜时间过长;喷铝过多 4,镀膜电流过高
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离子镀膜,一个精密的工艺过程,其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶,偏压电源扮演了关键角色,采用直流电场的精密调控,确保阴极表面的电子被加速,进而轰击气体分子,引发电离现象。这个过程中,电子被电场驱动,形成雪崩效应,直至气体被击穿,形成稳定的电离电流,进而驱动离子加速,撞击靶材,将原子释放并沉积在样品表面,形成所需涂层。
偏压电源,就像荧光灯中的核心组件,它通过高频转换电路,以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现,稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时,通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果,适用于各种涂层需求,从工具保护到装饰美化。
离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。
1)所需设备:CCZK-1350-OGS光学电子枪镀膜设备
2)获得膜层:多层化合物膜层,超硬防水膜层,防指纹膜层,彩色膜层
3)涂装流程:玻璃产品的前处理清洗----烘箱烘干-----真空镀膜----成品包装
4)基本配置:
腔体结构:D1350MM*H1350MM 立式单开门
腔体材质:304不锈钢
转动方式:公自转结合,穹顶行星式转架
蒸发电源:SCR可控硅+大功率蒸发变压器
蒸发阻源:3组
电 子 枪:E型电子枪,磁偏转270°
坩 埚:可旋转多孔位坩埚
悬浮式高真空卷绕式镀膜机的卷绕控制要求的转矩控制,以般采用直流驱动,但是随着交流驱动技术的飞速发展,现在逐步采用交流永磁同步伺服电机或交流异步电机驱动。丹佛斯FC302系列驱动器具有伺服级的驱动性能,驱动交流异步电机也有实现平稳的转矩控制,为这个行业提供了一种易用的解决方案,用户只需要设置几个简单的参数,就能满足实际生产需求,操作和调试也非常简便。
一、悬浮式高真空卷绕式镀膜机的传动结构:
放卷转向为正
放卷转向为负
3驱动悬浮式高真空卷绕式镀膜机的典型传动结构,其中:
M1为冷却辊,直径恒定,由一台FC302驱动,冷辊的速度即为镀膜的线速度。
M2为收卷辊,中心卷绕,直径逐步变大,由一台FC302驱动,提供收卷张力。
M3为放卷辊,中心卷绕,直径逐步变小,由一台FC302驱动,提供放卷张力。
冷却辊和收卷辊的转向是固定的,但是放卷辊由于卷筒卷绕方向不同,工作时有正、反两种转向,对应反、正两种转矩。
真空镀膜机传动系统的特点:
1.由于真空室狭小,无法安装张力检测装置,所以收、放卷张力完全要靠收、放卷驱动的电机直接控制。因此收、放卷驱动器都工作于转矩工作模式。对于较轻较薄的材料,收卷还有张力锥度功能。
2.由于工艺方面的原因,起主传动作用的冷却辊上没有压辊,因此冷却辊只能靠摩擦力带动薄膜;收、放卷张力相差较大时,薄膜很容易在冷却辊上打滑。如何防止打滑是驱动控制方面的难题。