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3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和
高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。

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抽空时间相同,而真空度偏低,这时候关闭主阀,如真空计指针很快下降,多数情况是真空室漏,应先查出漏点。如真空计指针下降很慢,多数情况是真空机组抽气能力不够,查找真空泵及阀门看哪里出现泄漏,或是扩散泵油污染或氧化;或前级管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,轴封漏油等。漏--分内漏和外漏,较大的漏点可以用火焰法,利用气流能使火焰偏离的原理,先抽上真空,比如用蜡烛或打火机在可疑点附近逐步查寻,会发现火苗向漏点偏移,则可找到漏点。查找小漏和微漏:利用在高真空状态下电离管对某些气体反应敏感来检漏,比如丙酮或乙醇,用医用注射器向可疑的地方喷射丙酮或乙醇,喷到漏点时,电离计的指针会有明显摆动。用这种方法检漏一定要有耐心,一定要等到电离计的示值稳定了--也就是真空机组的抽气能力和漏率平衡了,然后再喷射。好是反复几次,确认漏点。内漏多发生在有水冷套的设备上,查外漏没有发现疑点,但是却有以下现象:机械泵的抽速明显偏低、真空计示值低、机械泵油很快乳化、真空室内的铁基零部件明显锈蚀。具备以上条件基本可以确定有内漏。

真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,
JTPZ多功能镀膜技术及设备(加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机),针对汽车、摩托车灯具而设计的,在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜,这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事保护膜;防潮增透膜;防锈抗腐蚀;耐磨增硬膜。

利摘要显示,本申请关于一种真空镀膜自动加料装置,涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架,支架上安装有滑动机构,滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构,驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接;加料机构的上方还安装有储料罐,储料罐将粉料输送至加料机构内,加料机构与外部管式炉的进料口接驳;其中,储料罐上还安装有搅拌机构,搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中,粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺,既满足了蒸发材料的用量,又达到了实时动态调整进料量的目的,提升了镀膜效果,并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

1)所需设备:CCZK-1350-OGS光学电子枪镀膜设备
  2)获得膜层:多层化合物膜层,超硬防水膜层,防指纹膜层,彩色膜层
  3)涂装流程:玻璃产品的前处理清洗----烘箱烘干-----真空镀膜----成品包装
  4)基本配置:
  腔体结构:D1350MM*H1350MM 立式单开门
  腔体材质:304不锈钢
  转动方式:公自转结合,穹顶行星式转架
  蒸发电源:SCR可控硅+大功率蒸发变压器
  蒸发阻源:3组
  电 子 枪:E型电子枪,磁偏转270°
  坩    埚:可旋转多孔位坩埚

直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
    此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
    光学监控是高精密镀膜的的监控方式,这是因为它可以更地控制膜层厚度(如果运用得当)。度的改进源于很多因素,但根本的原因是对光学厚度的监控。
    OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统,是采用间接测控,结合汪博士开发的光学监控软件,有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。

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