韩国爱茉莉CC霜研磨分散机，上海家化CC霜研磨分散机

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CC霜，中文名称：色彩调控修容霜。*初是由日本**大护肤品株式会社为修正术后肌肤不均匀所设计，尤其是进行皮表面创伤及镭射治疗的人来使用，故被称为“色彩调控霜”，能提供受损较严重的皮肤保护及修护效果，并兼具视觉上调正肤色的特点，因此。

CC霜化妆品乳体液是有油、脂、蜡等许多原料混合而成的一种体系，因此混合机是重要的设备。为要制得的乳体液，选用符合生产要求的乳化设备。研磨分散机是一种剪切力很大的乳化设备，其主要部件是转子和定子，转子转速可达7890/13789RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速，轴承可以承受140000RPM(转速是普通胶体磨的3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)，可以迅速地将液体、固体或胶体粉碎成微粒，并且混合均匀。


CC霜研磨分散机CMD2000 系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质的物料。物料既可以有效分散，又可以防止团聚。这样的设计既具有胶体磨的研磨功能，又可以将物料由粗磨细；研磨后的物料经过下端的分散头（乳化头，均质头），瞬间均匀分散乳化，形成均一体系。在原来CMSD2000系列的基础上，将单一的磨头模块，改良成三级模块，加入了分散盘（均质盘、乳化盘）。磨头可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）我们将这种改良的也称为(研磨分散机、研磨均质机、研磨乳化机)。

CMSD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，机器连续24小时不停机运行。 

CMSD2000模块主要由两层分散头构成，工作时，物料通过投料口进入分散腔，到达层分散头进行处理，由于马达带动转子齿列高速运转，产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头，然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用，之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切，接着流出的物料进入第二层分散头腔体，对处理过的物料再次进行剪切（原理同上），从而确保混合分散获得很窄的粒径分布，获得更小的液滴和颗粒，生成的混合液稳定性更好，满足生产对于粒径的要求。

高剪切力研磨分散机采用胶体磨与分散均质乳化机合二为一的方式，使其具有研磨、剪切、分散、均质、乳化等诸多功能。目前高剪切力研磨分散机在流体研磨分散领域有着极其广泛的应用。

第1级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽，定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的精细度递升磨头终得到微纳米级的物料颗粒。

第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

从设备角度分析，影响混合，乳化，均质结果的因素有以下几点：

1 工作头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 工作头的剪切速率（越大，效果越好）

3 工作头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。

IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

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