半导体含氟清洗废水除氟树脂装置

CH-87除氟树脂再生液
成分情况：酸性，氟离子和硫酸铝的混合溶液；
再生剂：铝离子没有明显消耗
再生废液处理方式：沉淀处理
再生剂浓度：10%
再生剂选择：如果是氯化铝（不能用PAC）浓度可控制在5%

除氟树脂CH-87重要参数
型式：强碱性阴离子交换树脂
官能团：氟选择性官能基
处理精度：≤1mg/l
再生药剂：硫酸铝或氯化铝（10-15%左右浓度）
再生剂用量：2-3BV
再生流速：4BV/H
再生时间：30-45分钟
反洗用水：纯水/软水/自来水
反洗流速：5-10BV/H
反洗时间：30分钟

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