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MBE分子束外延7n铟,7n锑,7n碲,7n砷,7n镓

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分子束外延(MBE)是新发展起来的外延制膜方法,也是一种特殊的真空镀膜工艺。外延是一种制备单晶薄膜的新技术,它是在适当的衬底与合适的条件下,沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜的方法。该技术的优点是:使用的衬底温度低,膜层生长速率慢,束流强度易于控制,膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜,以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料</a>

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