绵阳地埋式污水处理设备厂家新闻

4、工艺特点
1、采用成熟的A/O/O生化处理工艺路线，具有良好的去除污水中的有机物和较好的脱氮功能，以满足排放标准的要求；
2、具有较好的耐冲击负荷能力，以适应水质、水量变化的特点；
3、采用污泥前置回流硝解工艺，大大降低污泥的生成量；
4、采用新型填料，挂膜快，寿命长，处理见效快；
5、充分考虑二次污染产生的可能性，将其影响降低至低程度；
6、采用集中控制、自动化运行，易于管理维修，提高系统可靠性、稳定性。
7、系统处理设施可全部设置在地表以下，不占地表面积，可作绿化，又利于防冻。
总体设计技术参数
1、主要构筑物及技术参数
（1）格栅井
设计为砖砼结构一只
（2）调节池
有效容积：120m3，有效调节时间：10h，有效水深：3.5m，调节池主要为调节污水的水量水质，以后续污水生喷雾除臭，喷雾消毒，喷雾降尘，喷雾造景，喷雾加湿 除臭系统 专注恶臭环境治理 车间废气处理 工业有机废气处理设备 车间降温设备 废气净化器除臭系统离子除臭剂 工厂、污水站、垃圾厂 玻璃水设备 车用尿素设备防冻液汽车用品 汽车美容用品 汽车玻璃水离子垃圾回收站 化学除臭法 生物除臭法 离子除臭法 生物除臭光氧离子法 垃圾房|喷淋|商场除臭 活性炭 生物净化设备,光电除臭设备 高能离子 光氢离子 管道 气体汽车尿素，车用尿素，汽车环保尿素，车用脱硝剂脉冲布袋收尘设备|布袋收尘器-除尘设备工厂烟尘废气净化、车间粉尘废气净化、有机废气净化、废气异味净化、酸碱废气净化、化工
化处理装置的连续平稳运行。池内设集水坑、爬梯，便于水泵工作及其维护。
（3）设备基础底板
设计为钢砼结构基础底板：水平平均负荷：≥4/Tm2
发明内容

　　本发明针对现有技术的不足，提出一种有机污水的生物稀释技术，能有效降低污水中浓度，操作方便。

　　为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：一种有机污水的生物稀释技术，将化学耗氧量和生化需氧量浓度含量较高的有机污水和化学耗氧量和生化需氧量浓度含量较低的城市有机污水混合，搅拌至均匀，使得混合的有机污水的化学耗氧量为7000ml/L，生化需氧量为8000ml/L;加入腐败希瓦氏菌，进行培养。

　　进一步地，所述腐败希瓦氏菌以希瓦氏菌进行偶氮还原所制得。

　　与现有技术相比，本发明具有以下优点：能有效地降低有机污水中化学耗氧量和生化需氧量的浓度含量，并采用腐败希瓦氏菌作深度降低，操作简便，效果好。

　　具体实施方式

　　下面结合实施例对本发明进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本发明的保护范围有任何的限制作用。

　　一种有机污水的生物稀释技术，包括以下操作过程：将用COD(化学耗氧量)、BOD(生化需氧量)浓度含量较高的有机污水和COD、BOD浓度含量较低的城市有机污水调至COD7000mg/L，BOD 8000mg/L后用腐败希瓦氏菌混制而成。

　　其中浓度含量较高或浓度含量较低均是相对于COD7000mg/L，BOD 8000mg/L而言。

　　腐败希瓦氏菌，以希瓦氏菌的偶氮还原。希瓦氏菌属的3个代表种为研究对象，研究了在厌氧条件下腐殖质的存在对偶氮还原的影响。实验结果表明：3个代表菌株在厌氧条件下都有的偶氮还原和腐殖质还原功能，1mmol/L偶氮染料在24h内完全脱色，并且偶氮还原与电子供体氧化存在着紧密的偶联关系。腐殖质物质模式物2-磺酸蒽醌AQS在小于1～2mmol/L条件下能显著加速偶氮还原，12h就完全脱色，3mmol/L时18h完全脱色。但当浓度大于3mmol/L时则对偶氮还原产生明显抑制作用。另一腐殖质模式物2,6-双磺酸蒽醌AQDS其浓度在1～3mmol/L以内亦使脱色在12h内完成，4～6mmol/L时15h左右完成脱色，7～12mmol/L仍有一定的脱色促进作用，但随着浓度的提高，其促进作用也逐渐减弱。这说明腐殖质的确可以作为氧化还原中间体穿梭于电子供体与染料的偶氮双键之间促进偶氮还原。但当其浓度达到某一阈值时它就显出与偶氮键竞争电子的本质，从而使偶氮还原速率下降;原因在于他们的氧化还原电势的差异，导致细菌呼吸链的电子递体对腐殖质物质和偶氮键的亲和力不同，从而使不同腐殖质浓度对偶氮键还原产生了不同的影响。
地埋式污水处理装置
　　采用本发明稀释技术，应用于如垃圾渗透液、印染厂污水，这样每厂每天有几千吨需要自行处理后，再排到污水厂处理，每吨处理费需5元左右，按每厂每天有2千吨计算，即每天需耗费1万元，每年需耗费365万元,厂方前期还要投资建预处理大批设备，处理过程中还需添加很多添加剂，才能降低COD、BOD。用该技术降低垃圾渗透液、印染厂有机污水，只需拥有一台小设备过滤即可，即节约费用又节约时间。地埋式污水怎么处理 地埋式废水治理设施 厂家 新闻
地埋式废水处理装置
　　以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。