超迈光电等离子实验室清洗/刻蚀机表面活化处理生产厂家

刻蚀机，‌也称为半导体刻蚀设备，‌是半导体制造过程中的关键设备之一，‌其重要性凸显，‌地位举足轻重。‌刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺，‌主要用于去除特定区域的材料以形成微小的结构图案。‌刻蚀机与光刻、‌薄膜沉积并称为半导体制造三大核心设备，‌其中刻蚀机排在第二位，‌仅次于薄膜沉积设备。‌