结构型高分子导电材料研磨机

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IKN研磨分散机设计特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

结构型高分子导电材料。是指高分子结构本身或经过掺杂之后具有导电功能的高分子材料。根据电导率的大小又可分为高分子半导体、高分子金属和高分子超导体。按照导电机理可分为电子导电高分子材料和离子导电高分子材料。电子导电高分子材料的结构特点是具有线型或面型大共轭体系，在热或光的作用下通过共轭π电子的活化而进行导电，电导率一般在半导体的范围。采用掺杂技术可使这类材料的导电性能大大提高。如在聚乙炔中掺杂少量碘，电导率可提高12个数量级，成为“高分子金属”。经掺杂后的聚氮化硫，在温下可转变成高分子超导体。结构型高分子导电材料用于试制轻质塑料蓄电池、太阳能电池、传感器件、微波吸收材料以及试制半导体元器件等。但目前这类材料由于还存在稳定性差(特别是掺杂后的材料在空气中的氧化稳定性差)以及加工成型性、机械性能方面的问题，尚未进入实用阶段。

IKN研磨分散机介绍：
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国x设备转速的4-5倍。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的

CMD2000系列研磨分散机设备选型表

型号 流量
L/H 转速
rpm 线速度
m/s 功率
kw 入/出口连接
DN
CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65
CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
工艺应用:
☆食品纤维类物料的湿法超细破碎与均质 ☆可溶物(或互溶物)固体和液体加速溶解
☆动物和植物组织的超细破碎及浆化加工 ☆不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散
☆不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散 ☆纳米材料团聚物的强力解聚与超细分散</a>