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单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1 引 言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,其中用量和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路 ,生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用提拉的办法制成的。在单晶硅生产过程中 ,对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ,从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 ,再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中 ,要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度 V向上 (下 )运动 ,而且当提拉负载增大引起线速度为零时 ,提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。在实际单晶炉中 ,对提拉控制系统提出的主要技术指标是 ,提拉速度在 0 .2~ 1 0 .0 mm/h范围之内实现无级可调 ,线性精度大于± 2 %蓝宝石长晶炉回收,多晶硅铸锭炉回收,提拉式长晶炉回收,多晶长晶炉回收,卧式长晶炉回收,拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,TD-800型软轴提拉型单晶炉,是根据用户实际需求研发的新产品。是在流动惰性气体环境中,以石墨电阻加热器,将硅半导体材料熔化,用直拉法生长无错位单晶的设备。它可以生产大规模太阳能电池、集成电路所需要的硅单晶。单晶炉主机系统包括:底座立柱、坩埚驱动装置、主炉室、翻板阀室,副炉室,籽晶提升与旋转机构、液压驱动装置、真空系统,充气系统及水冷系统。炉室结构为顶升式,主炉室和副炉室开启时由液压传动装置实现上移。炉室和副炉室之间,设有浮动式翻板阀室,可在现场维持工艺温度的情况下,取出晶体,更换籽晶和补充加料进行连续拉晶。
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而采用有限元法数值模拟是一种优化单晶炉设计的重要工具。本文对采用矮加热器的复合式热场进行了数值模拟,得到了流场分布图和热场温度分布图。对新型热屏和矮加热器对晶体生长的影响进行了系统的理论分析和实验验工作。结果表明,新型热屏不仅起到导流筒的作用,改进了流场,使单晶氧含量下降;而且热屏解决了大直径单晶生长中结晶潜热难以散发的问题,大大提高了拉晶速率,降低了生产成本。